半導体用マスク描画装置SLXを受注

2026年6月30日 - Mycronic AB（マイクロニック、本社：スウェーデン、日本法人：マイクロニックテクノロジーズ株式会社、東京都調布市、代表取締役社長：呉 健治）は本日、フォトマスク描画装置SLXをアジア地域の既存顧客から受注したことを発表しました。受注金額の価格帯は500～700万USドルで、2026年第3四半期に納入予定です。

レーザーマスク描画装置SLXは、半導体業界で需要が高まっているフォトマスクに対応するとともに、老朽化した装置の置き換えおよび近代化のサイクルをサポートします。半導体製造におけるフォトマスクの大半がレーザーマスク描画装置によって描画されており、その位置づけは今後更に重要になると言えます。エネルギー効率の良い最新の半導体用マスク描画装置SLXは、マイクロニックのディスプレイ用マスク描画装置と同じ技術をベースにしています。

マイクロニック 描画装置担当上級副社長Charlott Samuelssonのコメント：
「実績に裏付けられた性能や生産性、信頼性が高く評価され、旧式のマスク描画装置の置き換えに際して、引き続き多くのお客様に最新のSLXプラットフォームが選ばれていることを大変嬉しく思います。」

マイクロニックの PG 事業部はディスプレイ製造用および半導体製造用のマスク描画装置とマスク座標測定装置を提供しています。